產(chǎn)品參數(shù) | 品牌 | 米歇爾MICHELL | 是否支持加工定制 | 否 | 是否進(jìn)口 | 否 | B泵壓盤(pán)直徑 | 1mm | 包裝規(guī)格 | 標(biāo)準(zhǔn) | 保修期 | 3年 | 可售賣(mài)地 | 全國(guó) | | .jpg)
紫外曝光光刻機(jī) 1、曝光面積:110mm×110mm
2、曝光波長(zhǎng):365nm(純凈光源)
2、分辨力: 1.5μm
3、對(duì)準(zhǔn)精度 ± 1μm
4、掩模樣片整體運(yùn)動(dòng)范圍:X:6mm;Y:6mm
5、掩模尺寸:2.5寸、3寸、4寸、5寸
6、直徑Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm(可擴(kuò)展為15mm);
7、照明均勻性:±3
9、掩模相對(duì)于樣片運(yùn)動(dòng)行程: X:±5mm; Y:±5mm; θ: ±6度
10、汞燈功率:200W
11、曝光量設(shè)定:定時(shí)曝光 定時(shí)(到計(jì)時(shí)方式 0.1s-999s任意設(shè)定、設(shè)定精度0.1s)
12、雙目雙視場(chǎng)顯微鏡:物鏡三隊(duì):4X、10X、20X,目鏡三對(duì):10X、16X、20X或者 升級(jí)為無(wú)極變倍,觀測(cè)更加方便。
應(yīng)用領(lǐng)域
集成電路芯片、電子封裝、微電子機(jī)械系統(tǒng)、微光學(xué)元件、紅外探測(cè)器生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻,波導(dǎo)陣列光刻、液晶顯示聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、碼盤(pán)刻劃等
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