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 真空鍍膜機真空器件的檢漏方法有哪些呢?

  真空鍍膜廠家總結一下檢漏方法有哪些：

  依據(jù)電真空器材的結構特色及丈量精度要求，常用的有兩種檢漏辦法，即氦罩法和噴吹法(這兩種檢漏辦法具體介紹可見：氦罩法和噴吹法的氦質譜檢漏儀檢漏常見辦法)。

  檢漏時，先用氦罩法進行總漏率的測定，當總漏率超出答應值后再用噴吹法進行漏孔的精確認位。

  氦罩法是被檢件與檢漏儀銜接抽真空到達檢漏狀況后，用一個充溢氦氣的查驗罩，把被檢件全體或部分的表面面包圍起來。

  查驗罩充氦時先將罩內(nèi)空氣排出再充氦，以確保罩內(nèi)氦濃度盡可能挨近100百分之，被檢件上任何地方有走漏。

  檢漏儀都會有漏率值改變，顯示出漏率值。氦罩時刻也要繼續(xù)3~5倍檢漏儀呼應時刻。

  ASM192T2氦質譜檢漏儀反應時刻小于0.5s,因而氦罩時刻30s即可。

  氦罩法可方便地測定被檢件總漏率，不會漏掉任何一處漏點，但不能確認漏孔方位。

  噴吹法是將被檢件與儀器的真空體系相連，對被檢件抽真空后用噴槍向可疑漏孔處吹噴氦氣。

  當有漏孔存在時，氦氣就經(jīng)過漏孔進入質譜儀被檢測出，噴吹法彌補了氦罩法不能定位的缺點。

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